7纳米以下芯片的光刻技术已获专利！外媒报道：中国大陆正在迎头赶上。

7纳米以下芯片的光刻技术已获专利！外媒报道：中国大陆正在迎头赶上。

中国大陆在先进芯片制造领域正缩小与西方的差距。据外媒报道，上海我知道了中芯国际电子设备集团有限公司近日宣布获得一系列7纳米以下芯片制造关键技术的专利。这一消息也引起了德国等海外专业媒体的关注，他们认为中国大陆在芯片领域正在迎头赶上。

据包括Smart News在内的多家网络媒体报道，中国国家知识产权局近日公开了一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利。该专利涵盖一种极紫外辐射发生装置和光刻设备，申请人为上海微电子设备集团有限公司。

EUV光刻技术是一种先进的芯片制造技术，它可以在半导体晶圆上绘制极其精细的电路，从而生产出更小、更强大的芯片。射频超高精度芯片。这项技术采用极紫外光（EUV）作为光源，精度高于传统光刻技术。拥有EUV光刻技术专利意味着掌握了制造7纳米以下芯片的关键能力。

据相关报道，上海微电子公开的专利主要涉及极紫外光源和光刻设备。其中，极紫外辐射发生器光源的关键部件主要包括谐振腔、靶发生器、激光发生器、收集镜、电极板和气动控制部件等。

这条新闻也引起了德国科技政治媒体Telepolis的关注。该媒体近期报道称，中国大陆在芯片领域正在迎头赶上。

报告认为，中国的科技进步几乎势不可挡。中国光刻设备市场99%的份额由荷兰AMSL公司以及日本尼康和佳能公司控制。只有Esmol公司生产用于制造7纳米以下芯片的设备。然而，Esmol在为中国大陆客户提供服务方面面临着压力，中国大陆是其仅次于台湾的第二大市场。

根据2023年年度报告，Esmol在中国大陆的订单满足率仅为50%。据香港《南华早报》报道，自9月6日起，EiSIM该公司已被要求获得荷兰许可证才能在中国大陆提供零部件、软件更新和系统维护服务。此前，在美国则需要出口许可证。

据中国媒体报道，华为最新款Mate XT三折屏手机所搭载的麒麟9000处理器，是由中国大陆一家通信设备公司华为采用5纳米工艺制造的。这也表明，尽管受到国际制裁，中国大陆企业仍然具备生产7纳米以下先进芯片的能力。

但与此同时，一些分析人士认为，华为及其合作伙伴已经找到了规避芯片设备出口管制的方法。目前尚无确凿证据表明华为拥有这些关键技术的完全本土化供应链。